Zasada czyszczenia laserowego

Obejmuje głównie następujące aspekty:

Efekt absorpcji: Energia lasera może zostać pochłonięta przez zanieczyszczenia na powierzchni celu, powodując nagrzanie punktu absorpcji zanieczyszczeń, powodując rozszerzalność cieplną i topienie. Ta rozszerzalność cieplna wytwarza ciśnienie cieplne, powodując chwilowe zmniejszenie przyczepności zanieczyszczeń do podłoża, powodując oddzielenie się zanieczyszczeń od podłoża.

Efekt plazmowy: Gdy gęstość mocy wiązki lasera jest wyższa niż próg materiału, generowana jest plazma. Plazma to wysokoenergetyczne pole elektromagnetyczne składające się z dodatnio naładowanych jonów i wolnych elektronów, które może rozrywać wiązania chemiczne pomiędzy substancjami zanieczyszczającymi a podłożami lub dysocjować strukturę molekularną, oczyszczając w ten sposób zanieczyszczenia z powierzchni obiektu docelowego.

Efekt parowania: Gdy wiązka lasera naświetla powierzchnię substancji zanieczyszczającej. Energia świetlna jest pochłaniana przez substancję zanieczyszczającą i podgrzewa ją do wysokiej temperatury, powodując wzrost jej temperatury powyżej temperatury parowania, co powoduje odparowanie substancji zanieczyszczającej. Efekt parowania może całkowicie usunąć zanieczyszczenia, nie uszkadzając podłoża. Reakcja fotochemiczna: Laser reaguje z substancjami chemicznymi znajdującymi się na powierzchni obiektu docelowego. Zmieniając w ten sposób właściwości chemiczne i uzyskując efekt czyszczący.

Efekt piaskowania: Podczas czyszczenia laserowego, ze względu na chwilową wysoką gęstość energii. Zanieczyszczenia ulegają wybuchowi w wyniku rozszerzalności cieplnej. Efekt wybuchu powoduje, że zanieczyszczenia szybko pękają i w krótkim czasie spadają z powierzchni.